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    工藝制程配套(Process supporting)

    以設備機臺為服務對象,按其具體技術要求, 將動力主系統的各種

    動力源安全/優質地銜接到機臺,并保證機臺長期持續正常運作。

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    工藝制造分類
    CPU制造工藝:

    在生產CPU過程中,要加工各種電路和電子元件,制造導線連接各個元器件等?,F在其生產的精度以納米(以前用微米)來表示,精度越高,生產工藝越先進。在同樣的材料中可以容納更多的電子元 晶圓局部件,連接線也越細,有利于提高CPU的集成度。制造工藝的納米數是指IC內電路與電路之間的距離。制造工藝的趨勢是向密集度愈高的方向發展,密度愈高的IC電路設計,意味著在同樣大小面積的IC中,可以擁有密度更高、功能更復雜的電路設計。微電子技術的發展與進步,主要是靠工藝技術的不斷改進。芯片制造工藝從1971年開始,經歷了10微米、6微米、3微米、1.5微米、1微米、800納米、600納米、350納米、250納米、180納米、130納米、90納米、65納米、45納米、32納米、22納米、14納米、10納米,一直發展到2019年最新的7納米,而5納米將是下一代CPU的發展目標。


    GPU制造工藝:

    顯卡的制造工藝實際上就是指顯示核心的制程,它指的是晶體管門電路的尺寸,現階段主要以納米(nm)為單位。顯示芯片的制造工藝與CPU一樣,也是用微米來衡量其加工精度的。制造工藝的提高,意味著顯示芯片的體積將更小、集成度更高,可以容納更多的晶體管。 NVIDIA的GM200芯片采用28nm的制造工藝和中央處理器一樣,顯示卡的核心芯片,也是在硅晶片上制成的。微電子技術的發展與進步,主要是靠工藝技術的不斷改進,顯示芯片制造工藝在1995年以后,從0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米、90納米、80納米、65納米、55納米、40納米、28納米、16納米、12納米一直發展到現在的7納米制程。顯卡廠商AMD(超威半導體)已經有三款7nnm工藝顯卡在售。
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    工藝制造

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